消耗臭氧層的物質有哪些

　　消耗臭氧層物質(ODS)主要來源于人工合成的一些含有鹵族元素的化合物，它們是造成平流層臭氧損耗的最重要因素，這些造成臭氧層破壞的化合物統稱為臭氧層損耗物質。目前的臭氧層損耗物質包括：1、氟氯化碳和哈龍，主要是氟利昂CFC－11、CFC－12等和哈龍Halon－1211、Halon－1301、Halon－2402；2、其他全鹵化氟氯化碳，如CFC－13、CFC－111等10種化合物；3、四氯化碳和甲基氯仿；4、氟氯烴類，如HCFC－21、HCFC－22等共74種；5、甲基溴。

　　在臭氧層的研究和保護過程中，特別受到關注的是氟利昂和哈龍類化合物。科學研究發現，這些物質在對流層中不發生光分解作用，也基本不在對流層被氧化，由于難溶于水，也不易被降水去除。因此這些臭氧損耗物質的大氣壽命相當長。科學研究表明，氟利昂類物質也是溫室氣體，它們吸收紅外輻射的能力比二氧化碳要強得多，因此具有破壞臭氧層和影響全球氣候變化的雙重效應。